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光電催化的基本原理是什么?

更新時(shí)間:2025-01-09      點(diǎn)擊次數(shù):532
  光電催化的基本原理涉及光輻照與電解液接觸的半導(dǎo)體表面所產(chǎn)生的光生電子-空穴對(duì)在半導(dǎo)體/電解液界面電場(chǎng)的作用下與溶液中離子發(fā)生的氧化還原反應(yīng)。以下是該原理的詳細(xì)解釋:
  一、光吸收和電子激發(fā)
  當(dāng)光照射到半導(dǎo)體材料時(shí),光子的能量被半導(dǎo)體材料吸收,使得材料中的電子獲得足夠的能量,從價(jià)帶躍遷到導(dǎo)帶,并在價(jià)帶中留下等量的空穴。這個(gè)過程產(chǎn)生了電子-空穴對(duì),為后續(xù)的氧化還原反應(yīng)提供了必要的反應(yīng)物。
  二、電荷分離和遷移
  在半導(dǎo)體內(nèi)部,電子和空穴容易復(fù)合,但通過材料設(shè)計(jì)或在半導(dǎo)體表面施加外部電場(chǎng),可以有效地將電子和空穴分離,防止它們重新結(jié)合。分離后的電子和空穴會(huì)遷移到催化劑的表面,為與吸附在表面的反應(yīng)物發(fā)生氧化還原反應(yīng)做好準(zhǔn)備。
  三、反應(yīng)活性位點(diǎn)
  半導(dǎo)體材料的表面具有催化活性位點(diǎn),這些位點(diǎn)可以吸附反應(yīng)物分子,如水、有機(jī)污染物等。吸附在表面的分子與電子或空穴相互作用,參與氧化還原反應(yīng)。
  四、氧化還原反應(yīng)
  在催化劑表面,光生電子和空穴分別作為還原劑和氧化劑參與反應(yīng)。例如,在水分解反應(yīng)中,電子還原水生成氫氣,空穴氧化水生成氧氣。在有機(jī)污染物降解中,空穴可以氧化有機(jī)分子,而電子則與溶解氧或其他氧化劑反應(yīng),完成整個(gè)氧化還原循環(huán)。
  光電催化技術(shù)通過利用光能激發(fā)半導(dǎo)體材料產(chǎn)生電子-空穴對(duì),并驅(qū)動(dòng)氧化還原反應(yīng),實(shí)現(xiàn)了對(duì)太陽(yáng)能的有效利用和化學(xué)反應(yīng)的催化。這一技術(shù)不僅具有高效、綠色、可持續(xù)的特點(diǎn),還在環(huán)境保護(hù)、能源轉(zhuǎn)換和工業(yè)化工等領(lǐng)域顯示出巨大潛力。
 

 

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